ИССЛЕДОВАНИЕ ВЛИЯНИЯ УСЛОВИЙ ФОРМИРОВАНИЯ НА СВОЙСТВА ТОНКИХ ПЛЕНОК МОЛИБДЕНА, НАНЕСЕННЫХ МАГНЕТРОННЫМ РАСПЫЛЕНИЕМ
Том 40 № 3 (2004), Содержание
Том 40 № 3 (2004)

ИССЛЕДОВАНИЕ ВЛИЯНИЯ УСЛОВИЙ ФОРМИРОВАНИЯ НА СВОЙСТВА ТОНКИХ ПЛЕНОК МОЛИБДЕНА, НАНЕСЕННЫХ МАГНЕТРОННЫМ РАСПЫЛЕНИЕМ

Л.П. Ануфриев
Унитарное предприятие «Завод Транзистор», ул. Корженевского 16, г. Минск, 220016, Беларусь
А.С. Турцевич
Унитарное предприятие «Завод Транзистор», ул. Корженевского 16, г. Минск, 220016, Беларусь
В.В. Глухманчук
Унитарное предприятие «Завод Транзистор», ул. Корженевского 16, г. Минск, 220016, Беларусь
Я.А. Соловьев
Унитарное предприятие «Завод Транзистор», ул. Корженевского 16, г. Минск, 220016, Беларусь
В.В. Баранов
Учреждение образования “Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники”, ул. П. Бровки 6, г. Минск, 220067, Беларусь

Аннотация

The study of the basic electrophysical parameters of thin Mo films obtained by magnetron sputtering depending on the conditions of deposition was made. It is shown that the films obtained at deposition rate about 4 nm/s and at less than 1 Pa Argon pressure to the substrates heated up to temperature over 450C have the best reproducibility.

article_12