ЭЛЕКТРОННАЯ ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ
https://eom.usm.md/index.php/journal
<p>ЭЛЕКТРОННАЯ ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ</p> <p>(Electronic Processing of Materials)</p> <p>Журнал «Электронная обработка материалов» - некоммерческий научный журнал, в котором публикуются статьи в открытом доступе в рамках лицензии <a href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/">Creative Commons License Creative Commons Attribution 4.0 International License</a>.</p> <p>Журнал публикует работы, содержащие результаты оригинальных исследований и обзоры по актуальным направлениям теоретических основ и практических применений электроэрозионных и электрохимических методов обработки материалов, физико-химических методов получения макро-, микро– и наноматериалов, исследования их свойств, электрических процессов в технике, химии, при обработке биологических и пищевых объектов, электромагнитных полей в биосистемах.</p> <p>Периодичность выхода в свет - 6 номеров в год.</p> <p>Часть статей журнала «Электронная обработка материалов», в переводе на английский язык издается в США под названием “Surface Engineering and Applied Electrochemistry” издательством Allerton Press, Inc./Pleiades Publishing и распространяется компанией Springer. Веб-адреса английской версии журнала: <a href="https://www.pleiades.online/en/journal/surfeng">https://www.pleiades.online/en/journal/surfeng</a> ; <a href="https://www.springer.com/journal/11987">https://www.springer.com/journal/11987</a>.</p>Institute of Applied Physics, MSUru-RUЭЛЕКТРОННАЯ ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ0013-5739лияние условий локальной плазменно-электролитной нитроцементации стали 45 на трибологические и коррозионные свойства
https://eom.usm.md/index.php/journal/article/view/eom.2026.62.1.01
<p><strong>УДК</strong> 544.558+66.088</p> <p>DOI <a href="https://doi.org/10.52577/eom.2026.62.1.01">https://doi.org/10.52577/eom.2026.62.1.01</a></p> <p> </p> <p style="text-align: justify;">Рассмотрены особенности локальной плазменно-электролитной обработки вращающегося вала. Изучены изменения структурно-фазового состава поверхностного слоя, трибологических и коррозионных свойств в зоне контакта струи электролита с обрабатываемой поверхностью и смежных областях среднеуглеродистой стали 45. Показано формирование градиента структурно-фазовых изменений, который определяется изменением температуры и интенсивности диффузии, а также скорости охлаждения при закалке. Выявлена трибологическая эффективность локальной обработки, вызванная работой оксидных слоев в качестве смазки, в сочетании с матрицей высокой твердости и увеличения несущей способности профиля поверхности после обработки. Представленный способ обработки позволяет снижать массовый и объемный износ до 32 раз в зоне контакта струи электролита с поверхностью. Установлено повышение поляризационного сопротивления в среде хлорида натрия после локальной обработки поверхности стали за счет влияния нитридных и оксидных фаз.</p> <p style="text-align: justify;"> </p> <p style="text-align: justify;"><em>Ключевые слова:</em> плазменно-электролитная обработка, локальная обработка, струйная обработка, сталь 45, трение, коррозия.</p>Кусманов С.А.Тамбовский И.В.Мухачева Т.Л.Голубева Т.М.Феклистова В.М.Колесов Д.А.Григорьев С.Н.
Copyright (c) 2026 ЭЛЕКТРОННАЯ ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ
2026-03-162026-03-16621111Изучение распределения удельного съема материала в отверстиях при электролитно-плазменном полировании нержавеющей стали
https://eom.usm.md/index.php/journal/article/view/eom.2026.62.1.12
<p><strong>УДК</strong> 621.7.047.7</p> <p>DOI <a href="https://doi.org/10.52577/eom.2026.62.1.12">https://doi.org/10.52577/eom.2026.62.1.12</a></p> <p> </p> <p style="text-align: justify;">Разработана и апробирована методика оценки распределения удельного съема материала в отверстиях при электролитно-плазменном полировании нержавеющей стали AISI 316. Методика позволяет количественно оценивать краевые эффекты для оптимизации режимов полирования сложнопрофильных деталей. Исследовано влияние глубины погружения (2 и 10 см) и температуры электролита (40–100 °C) на распределение съёма материала и рассеивающую способность. Показано различное поведение верхней и нижней кромок отверстий: скорость съёма на верхней кромке в среднем выше. Установлено, что рассеивающая способность растёт с увеличением глубины погружения, а наиболее равномерная обработка достигается при температуре электролита 80 °C.</p> <p style="text-align: justify;"> </p> <p style="text-align: justify;"><em>Ключевые слова:</em> электролитно-плазменное полирование, краевой эффект, полирование отверстий, рассеивающая способность, распределение съема.</p>Силкин С.А.Перков А.С.Ефременко А.А.
Copyright (c) 2026 ЭЛЕКТРОННАЯ ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ
2026-03-162026-03-166211218Особенности распределения электромагнитного поля в металлическом расплаве при его комбинированной электротоковой и магнитно-импульсной обработке
https://eom.usm.md/index.php/journal/article/view/eom.2026.62.1.19
<p><strong>УДК</strong> 537.528: 669.017.16</p> <p>DOI <a href="https://doi.org/10.52577/eom.2026.62.1.19">https://doi.org/10.52577/eom.2026.62.1.19</a></p> <p> </p> <p style="text-align: justify;">Исследованы особенности распределения электромагнитного поля и силового нагружения в расплаве при его совместной электротоковой и магнитно-импульсной обработке в частотных режимах. Показано, что при частотах тока до 5 кГц вихревые поля охватывают практически весь объем расплава. Увеличение частоты до 25 кГц и выше приводит к их концентрации в приповерхностных и пристеночных зонах. Установлено, что с повышением частоты тока происходит монотонное возрастание напряженности электрического поля. Показано, что, несмотря на существенно неравномерное распределение электромагнитных полей на высоких частотах, обеспечивается относительно высокий показатель равномерности обработки от 1 при 5 кГц до 0,45 при 200 кГц. При этом обеспечивается стабильное интегральное силовое воздействие на весь объем расплава при одновременном росте максимума плотности электромагнитной силы более чем в два раза с ростом частоты тока.</p> <p style="text-align: justify;"> </p> <p style="text-align: justify;"><em>Ключевые слова:</em> электротоковая обработка, магнитно-импульсная обработка, расплав, электромагнитное поле, частота тока, силовое нагружение.</p>Честных Н.В.Иванов А.В.
Copyright (c) 2026 ЭЛЕКТРОННАЯ ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ
2026-03-162026-03-166211926Электрофизические условия возникновения лидера при электрическом пробое высоким импульсным напряжением длинного воздушного промежутка в двухэлектродной разрядной системе «острие–плоскость»
https://eom.usm.md/index.php/journal/article/view/eom.2026.62.1.27
<p><strong>УДК</strong> 621.3.022:621.396.6:533.93</p> <p>DOI <a href="https://doi.org/10.52577/eom.2026.62.1.27">https://doi.org/10.52577/eom.2026.62.1.27</a></p> <p> </p> <p style="text-align: justify;">Приведены результаты расчетно-экспериментального определения электрофизических условий возникновения канала лидера при электрическом пробое длинного воздушного промежутка в двухэлектродной разрядной системе (ДЭРС) «острие–плоскость» стандартным коммутационным апериодическим импульсом высокого напряжения временной формы <em>T<sub>m</sub>/Т<sub>p</sub> ≈ 200 мкс/1990 мкс</em> положительной полярности. Предложен новый инженерный подход к обоснованному выбору основного показателя стримерно-лидерного перехода в длинном воздушном промежутке ДЭРС, позволивший сформулировать основные условия для его наступления и появления в разрядном промежутке ДЭРС положительного лидера. Получены расчетные соотношения для определения: радиуса <em>r<sub>i</sub></em> зоны активной ударной ионизации электронами воздуха вблизи потенциального электрода ДЭРС; плотности <em>n<sub>es</sub></em> электронов в канале развитого стримера в указанной зоне ионизации воздуха; максимальной электронной температуры <em>T<sub>ms</sub></em> в канале данного стримера, трансформируемого из-за повышения в его канале плотности <em>n<sub>es</sub></em> электронов и этой температуры <em>T<sub>ms</sub></em> в начальный положительный лидер.</p> <p style="text-align: justify;"> </p> <p style="text-align: justify;"><em>Ключевые слова:</em> длинный воздушный промежуток, высокое импульсное напряжение, электрический пробой, стример, лидер, стримерно-лидерный переход, расчет, эксперимент.</p>Баранов М.И.
Copyright (c) 2026 ЭЛЕКТРОННАЯ ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ
2026-03-162026-03-166212742Особенности релаксационных параметров кварца разного типа при динамическом наноиндентировании
https://eom.usm.md/index.php/journal/article/view/eom.2026.62.1.43
<p><strong>УДК</strong> 538.9:538.951</p> <p>DOI <a href="https://doi.org/10.52577/eom.2026.62.1.43">https://doi.org/10.52577/eom.2026.62.1.43</a></p> <p> </p> <p style="text-align: justify;">Исследованы кристаллы <em>SiO2</em> разного типа: монокристаллические (<em>α-SiO<sub>2</sub></em>), поликристаллические (<em>р-SiO</em><em><sub>2</sub></em>) и аморфные, или стеклообразные, (<em>а-SiO</em><em><sub>2</sub></em>) с целью выявить влияние структурной формы на изменение релаксационных параметров при динамическом наноиндентировании. Для всех исследованных образцов было отмечено, что параметры релаксации зависят от типа образца и проявляют закономерное возрастание с увеличением нагрузки на индентор. Детальное изучение релаксационных параметров (<em>h<sub>e</sub>, h<sub>e-p</sub></em> и <em>h<sub>res</sub></em>) позволило определить механизмы пластического деформирования кварца разного типа при наноиндентировании. Компьютерная визуализация рельефа поверхности вокруг отпечатков подтвердила участие ротационно-трансляционного механизма деформирования кристаллов <em>SiO2</em> разного типа в образовании отпечатков твердости. Показано, что ротационный механизм вносит больший вклад при индентировании кварца в интервале малых нагрузок (<em>Р = 10–50 мН</em>), а вклад трансляционного механизма возрастает с увеличением нагрузки (<em>Р = 100–500 мН</em>) и при переходе в ряду <em>α-SiO</em><em><sub>2</sub></em><em> → р-SiO</em><em><sub>2</sub></em><em> → а-SiO</em><em><sub>2</sub></em><em>.</em></p> <p style="text-align: justify;"> </p> <p style="text-align: justify;"><em>Ключевые слова:</em> кварц разного типа: монокристаллический, поликристаллический и аморфный (стеклообразный); динамическое наноиндентирование; релаксационные параметры, механизмы деформации.</p>Грабко Д.З.Пырцак К.М.Шикимака О.А.
Copyright (c) 2026 ЭЛЕКТРОННАЯ ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ
2026-03-162026-03-166214351О некоторых особенностях диспергирования жидкостей: о разрыве перетяжки и отрывающейся от мениска капле
https://eom.usm.md/index.php/journal/article/view/eom.2026.62.1.52
<p><strong>УДК</strong> 532.6</p> <p>DOI <a href="https://doi.org/10.52577/eom.2026.62.1.52">https://doi.org/10.52577/eom.2026.62.1.52</a></p> <p> </p> <p style="text-align: justify;">Рассмотрены физические закономерности электродиспергирования вязкой несжимаемой электропроводной жидкости: разрыва перетяжки, связывающей мениск с каплей, отрывающейся от мениска при развитии варикозной неустойчивости под действием осесимметричных сил, силы тяжести, силы электрического отталкивания капли от одноименно заряженного мениска и силы давления жидкости в капилляре. Основополагающим является то обстоятельство, что в качестве объекта исследования выступает перетяжка малого поперечного размера, связывающая существенно более крупную отрывающуюся каплю той же жидкости с мениском примерно такого же радиуса, от которого происходит отрыв капли. Так что приходится сталкиваться с физическим объектом, сложным для численного обсчета, состоящим из разномасштабных частей одной и той же жидкости, имеющей различные безразмерные локальные вязкости.</p> <p style="text-align: justify;"> </p> <p style="text-align: justify;"><em>Ключевые слова:</em> капля, мениск, разрыв перетяжки, гравитационное и электрическое поля.</p>Григорьев А.И.Ширяева С.О.
Copyright (c) 2026 ЭЛЕКТРОННАЯ ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ
2026-03-162026-03-166215261Получение образцов кремния, дифузионно-легированного примесными атомами марганца, с различными кристаллографическими направлениями
https://eom.usm.md/index.php/journal/article/view/eom.2026.62.1.62
<p><strong>УДК</strong> 621.315.592</p> <p>DOI <a href="https://doi.org/10.52577/eom.2026.62.1.62">https://doi.org/10.52577/eom.2026.62.1.62</a></p> <p> </p> <p style="text-align: justify;">Рассматривается процесс получения образцов кремния, диффузионно-легированного примесными атомами марганца, с различными кристаллографическими направлениями. Цель исследования заключается в изучении влияния диффузионного легирования примесными атомами марганца на физико-химические и тензосвойства кремния, а также получении образцов кремния с кристаллографическими направлениями {111}, {110} и {100}. Определены основные технологические режимы диффузии атомов марганца в кремнии при различных температурах и кристаллографических направлениях, которые влияют на распределение примесных атомов марганца в кристаллической решетке. Экспериментальные данные подтверждают, что направление кристаллической решетки оказывает значительное влияние на эффективность легирования и характеристики получаемых материалов. Результаты работы могут быть полезны для разработки новых полупроводниковых материалов, в которых электрофизические параметры сильно зависят от кристаллографического направления.</p> <p style="text-align: justify;"> </p> <p style="text-align: justify;"><em>Ключевые слова:</em> кремний, марганец, диффузия, кристаллографическое направление, примесь, электронный микроскоп.</p>Зикриллаев Н.Ф.Илиев Х.М.Сатторов А.А.Кушиев Г.А.Шоабдурахимова М.М.Абдуганиев Й.А.
Copyright (c) 2026 ЭЛЕКТРОННАЯ ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ
2026-03-162026-03-166216268