https://eom.usm.md/index.php/journal/issue/feed ЭЛЕКТРОННАЯ ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ 2025-05-07T10:09:14+03:00 Tatiana D. Shemyakova seae.journal@gmail.com Open Journal Systems <p>ЭЛЕКТРОННАЯ ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ</p> <p>(Electronic Processing of Materials)</p> <p>Журнал «Электронная обработка материалов» - некоммерческий научный журнал, в котором публикуются статьи в открытом доступе в рамках лицензии <a href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/">Creative Commons License Creative Commons Attribution 4.0 International License</a>.</p> <p>Журнал публикует работы, содержащие результаты оригинальных исследований и обзоры по актуальным направлениям теоретических основ и практических применений электроэрозионных и электрохимических методов обработки материалов, физико-химических методов получения макро-, микро– и наноматериалов, исследования их свойств, электрических процессов в технике, химии, при обработке биологических и пищевых объектов, электромагнитных полей в биосистемах.</p> <p>Периодичность выхода в свет - 6 номеров в год.</p> <p>Часть статей журнала «Электронная обработка материалов», в переводе на английский язык издается в США под названием “Surface Engineering and Applied Electrochemistry” издательством Allerton Press, Inc./Pleiades Publishing и распространяется компанией Springer. Веб-адреса английской версии журнала: <a href="https://www.pleiades.online/en/journal/surfeng">https://www.pleiades.online/en/journal/surfeng</a> ; <a href="https://www.springer.com/journal/11987">https://www.springer.com/journal/11987</a>.</p> https://eom.usm.md/index.php/journal/article/view/eom.2025.61.2.01 Структура и свойства защитных композиционных покрытий Zr-Mo-Si-B и Hf-Mo-Si-B, полученных методом искрового плазменного спекания 2025-05-07T08:42:58+03:00 Кирюханцев-Корнеев Ф.В. a@b.c Чертова А.Д. a@b.c Рупасов С.И. a@b.c Свиридова Т.А. a@b.c Лобова Т.А. a@b.c Feng P. a@b.c Ren X. a@b.c Левашов Е.А. a@b.c <p><strong>УДК</strong> 621.793/.795</p> <p>DOI&nbsp; <a href="https://doi.org/10.52577/eom.2025.61.2.01">https://doi.org/10.52577/eom.2025.61.2.01</a></p> <p>&nbsp;</p> <p style="text-align: justify;">Покрытия в системах Zr-Mo-Si-B и Hf-Mo-Si-B были получены методом искрового плазменного спекания (ИПС) с использованием гетерофазных порошков ZrSi<sub>2</sub>-MoSi<sub>2</sub>-ZrB<sub>2</sub> и HfSi<sub>2</sub>-MoSi<sub>2</sub>-HfB<sub>2</sub>, изготовленных методом самораспространяющегося высокотемпературного синтеза. Покрытия Zr-Mo-Si-B и Hf-Mo-Si-B характеризовались толщиной 1,3–1,4 мкм, обладали плотной структурой и содержали фазы, вес. %: 61 o-ZrSi<sub>2</sub>, 15 h-ZrB<sub>2</sub>, 15 t-MoSi<sub>2</sub>, 8 m-ZrO<sub>2</sub>, 1 c-ZrB и 53 o-HfSi<sub>2</sub>, 14 h-HfB<sub>2</sub>, 19 t-MoSi<sub>2</sub>, 9 m-HfO<sub>2</sub>, 5 c-HfB соответственно. Твердость покрытий составляла 15–16 ГПа, модуль упругости – 265–268 ГПа, и упругое восстановление – 38–39%. Покрытие Hf-Mo-Si-B характеризовалось минимальными значениями: а) приведенного износа 4,2×10<sup>-5</sup> мм<sup>3</sup>Н<sup>-1</sup>м<sup>-1</sup> в условиях трения скольжения, б) объема кратера 5×10<sup>3</sup> мкм<sup>3</sup> при ударно-динамических испытаниях и в) скорости окисления &lt;2,3×10-3 мг/(см<sup>2</sup>∙с) при 1200 °С. ИПС-покрытия превосходят ниобиевую подложку по износостойкости в ~ 25 раз и жаростойкости на несколько порядков.</p> <p style="text-align: justify;">&nbsp;</p> <p style="text-align: justify;"><em>Ключевые слова:</em> искровое плазменное спекание, покрытия, ZrSi<sub>2</sub>-ZrB<sub>2</sub>-MoSi<sub>2</sub>, HfSi<sub>2</sub>-HfB<sub>2</sub>-MoSi<sub>2</sub>, механические и трибологические характеристики, жаростойкость.</p> 2025-05-07T00:00:00+03:00 Copyright (c) 2025 ЭЛЕКТРОННАЯ ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ https://eom.usm.md/index.php/journal/article/view/eom.2025.61.2.11 Модификация поверхностного слоя композиционных мембран 2025-05-07T09:11:42+03:00 Фазуллин Д.Д. a@b.c Маврин Г.В. a@b.c Фазуллина Л.И. a@b.c <p><strong>УДК</strong> 66.086.2</p> <p>DOI&nbsp; <a href="https://doi.org/10.52577/eom.2025.61.2.11">https://doi.org/10.52577/eom.2025.61.2.11</a></p> <p>&nbsp;</p> <p style="text-align: justify;">Проведены исследования по повышению пористости поверхностного слоя композиционных мембран. Для этого в состав раствора полимера в качестве порообразователя добавлены такие растворители, как этанол и ацетонитрил, температура кипения которых выше, чем у ацетона, использованного как основной ацетат целлюлозы. По результатам исследования получены образцы композиционных мембран и изучены физико-химические свойства, такие как общая пористость, толщина слоя, водопоглощение, краевой угол смачивания, а также ИК-спектры мембран. Установлены удельная производительность и задерживающая способность полученных микрофильтрационных мембран.</p> <p style="text-align: justify;">&nbsp;</p> <p style="text-align: justify;"><em>Ключевые слова:</em> композиционные мембраны, пористость, ацетат целлюлозы, ацетон, этанол, ацетонитрил, краевой угол смачивания, ИК-Фурье-спектроскопия.</p> 2025-05-07T00:00:00+03:00 Copyright (c) 2025 ЭЛЕКТРОННАЯ ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ https://eom.usm.md/index.php/journal/article/view/eom.2025.61.2.18 Формирование рельефа поверхности многослойной нанопериодической структуры Ge<sub>5</sub>As<sub >37</sub>S<sub>58</sub>/Se, индуцированное электронным облучением 2025-05-07T09:18:28+03:00 Сергеев С.А. a@b.c Мешалкин А.Ю. a@b.c Стронский А.В. a@b.c Паюк О.П. a@b.c Тридух Г.М. a@b.c Кожокару И.А. a@b.c <p><strong>УДК</strong> 621.9.048.7</p> <p>DOI&nbsp; <a href="DOI https://doi.org/10.52577/eom.2025.61.2.18">DOI https://doi.org/10.52577/eom.2025.61.2.18</a></p> <p>&nbsp;</p> <p style="text-align: justify;">В многослойной нанопериодической структуре (МНС) Ge<sub>5</sub>As<sub>37</sub>S<sub>58</sub>/Se осуществлена электронно-лучевая запись растровых рисунков. Поверхность МНС Ge<sub>5</sub>As<sub>37</sub>S<sub>58</sub>/Se, образованная группой пикселей, изучалась в атомном силовом микроскопе. Установлен вклад массопереноса в формирование объемных пикселей, образующих рельеф поверхности данной МНС. Обнаружено, что быстрое перемещения пучка электронов между заданными точечными областями облучения приводит к образованию на поверхности МНС линий в виде гребней.</p> <p style="text-align: justify;">&nbsp;</p> <p style="text-align: justify;"><em>Ключевые слова:</em> электронно-лучевая запись, многослойная нанопериодическая структура, пленки халькогенидов, профиль поверхностного рельефа.</p> 2025-05-07T00:00:00+03:00 Copyright (c) 2025 ЭЛЕКТРОННАЯ ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ https://eom.usm.md/index.php/journal/article/view/eom.2025.61.2.25 Ингибирование пируватом натрия коррозии стали в воде 2025-05-07T09:29:27+03:00 Паршутин В.В. a@b.c Парамонов А.М. a@b.c Коваль А.В. a@b.c Лозан В.И. a@b.c <p><strong>УДК</strong> 620.197.323.669.14</p> <p>DOI&nbsp; <a href="https://doi.org/10.52577/eom.2025.61.2.25">https://doi.org/10.52577/eom.2025.61.2.25</a></p> <p>&nbsp;</p> <p style="text-align: justify;">Исследован процесс коррозии стали Ст3 в воде с добавлением пирувата натрия гравиметрическим, электрохимическим методами и рентгенофазовым анализом. Показано, что введение в коррозионную среду исследуемой добавки значительно уменьшает коррозию стали. В зависимости от времени испытаний и концентрации ингибитора скорость коррозии снижается до 3,8–6,0 раз при степени защиты 73,9–83,3%.</p> <p style="text-align: justify;">&nbsp;</p> <p style="text-align: justify;"><em>Ключевые слова:</em> коррозия стали Ст3, ингибитор коррозии, пируват натрия, покровные защитные слои.</p> 2025-05-07T00:00:00+03:00 Copyright (c) 2025 ЭЛЕКТРОННАЯ ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ https://eom.usm.md/index.php/journal/article/view/eom.2025.61.2.31 Получение Cо-W покрытий из концентрированных глюконатных электролитов 2025-05-07T09:37:05+03:00 Ивашку С.Х. a@b.c Бобанова Ж.И. a@b.c Ющенко С.П. a@b.c Кроитору Д.М. a@b.c <p><strong>УДК</strong> 544.65</p> <p>DOI&nbsp; <a href="https://doi.org/10.52577/eom.2025.61.2.31">https://doi.org/10.52577/eom.2025.61.2.31</a></p> <p>&nbsp;</p> <p style="text-align: justify;">Исследованы электроосаждение и свойства сплава Со-W, полученного из концентрированных глюконатных электролитов. Показано, что качественные покрытия сплава с высоким выходом по току формируются при изменении прекурсоров от 0,1 до 0,5 М при соотношении концентраций лиганда Cit и сплавообразующих компонентов Со<sup>2+</sup>/W0<sub>4</sub><sup>+</sup> (5:1). По результатам рентгеноструктурного анализа сделан вывод, что сплав Со-W формирует как поликристаллические твердые растворы замещения, так и термодинамически устойчивые соединения Со<sub>3</sub>W, которые в зависимости от содержания легирующего элемента вольфрама могут быть как поликристаллическими, так и мелкодисперсными. Высокие значения микротвердости сплава 800 кг/мм2, полученные при плотности тока 1 А/дм<sup>2</sup>, могут быть связаны с электрохимическим осаждением интерметаллида Со<sub>3</sub>W, который имеет высокую микротвердость.</p> <p style="text-align: justify;">&nbsp;</p> <p style="text-align: justify;"><em>Ключевые слова:</em> электролит, сплавы Co-W, скорость осаждения, состав сплавов, микротвердость, структура.</p> 2025-05-07T00:00:00+03:00 Copyright (c) 2025 ЭЛЕКТРОННАЯ ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ https://eom.usm.md/index.php/journal/article/view/eom.2025.61.2.45 Гибридная вторичная структура марганца и серы в кремнии 2025-05-07T09:44:04+03:00 Утамурадова Ш.Б. a@b.c Мавлянов А.Ш. a@b.c Собирова Ш.А. a@b.c Саттаров О.Э. a@b.c <p><strong>УДК</strong> 621.315.592</p> <p>DOI&nbsp; <a href="https://doi.org/10.52577/eom.2025.61.2.4">https://doi.org/10.52577/eom.2025.61.2.4</a></p> <p>&nbsp;</p> <p style="text-align: justify;">Предложены модель и результаты квантово-химического расчета гипотетической структуры Si<sub>2</sub>MnS, аналогичной кубической структуре F43m-β-MnS. Представлены результаты сравнительного анализа полученного при квантово-химическом численном расчете положения электронов размера щели E<sub>g</sub> структуры Si<sub>2</sub>MnS и экспериментальные результаты измерения спектра фотопроводимости образца Si, легированного примесными атомами Mn и S. Квантово-химический расчет структуры Si<sub>2</sub>MnS был выполнен без предварительной оптимизации геометрии в связи с тем, что оптимизация и последующий расчет методом функционала плотности дает слияние VBM и CBM (зон проводимости и валентной зоны). Углубленные теоретические исследования, детальные квантово-химические расчеты и эксперименты в области создания нового класса гибридных соединений с кубической решеткой типа алмаза с участием элементов групп IV/III–V и IV/II–VI позволят в дальнейшем спрогнозировать новые структуры.</p> <p style="text-align: justify;">&nbsp;</p> <p style="text-align: justify;"><em>Ключевые слова:</em> модель, квантово-химический расчет, неизовалентное соединение, монокристаллический кремний, марганец, сера, фотопроводимость.</p> 2025-05-07T00:00:00+03:00 Copyright (c) 2025 ЭЛЕКТРОННАЯ ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ https://eom.usm.md/index.php/journal/article/view/eom.2025.61.2.50 На пути к биомолекулярной электронике и ионике на основе РНК с различными противоионами 2025-05-07T09:53:16+03:00 Александров П.Л. a@b.c Бибиков С.Б. a@b.c Градов О.В. a@b.c Градова М.А. a@b.c Маклакова И.А. a@b.c Мальцев А.А. a@b.c Нагановский Ю.К. a@b.c Сергеев А.И. a@b.c <p><strong>УДК</strong> 539.2</p> <p>DOI&nbsp;&nbsp; <a href="https://doi.org/10.52577/eom.2025.61.2.50">https://doi.org/10.52577/eom.2025.61.2.50</a></p> <p>&nbsp;</p> <p style="text-align: justify;">Рассматриваются аргументы, подтверждающие и опровергающие возможность твердотельного подхода к анализу свойств РНК и других нуклеиновых кислот. Даются обоснования рациональности параллельной индикации электрофизических и фазовых свойств нуклеиновых кислот и их составляющих с учeтом эффектов и механизмов воздействия компонентов среды. Отмечается зависимость таких эффектов от ионного состава среды и степени гидратации образца. Предлагаются методы исследования зависимости электрофизических свойств дегидратированных, твердотельных образцов РНК от ионного состава среды, в частности, от природы противоиона. Использованный набор методов включает в себя прямую визуализацию зарядки поверхности образцов с использованием электронного пучка сканирующего электронного микроскопа и осциллографии распространения волн заряда; измерения протонной магнитной релаксации для оценки времен спин-спиновой релаксации и доли протонов с различными степенями подвижности; анализ фазового состояния кристаллической РНК и её солей путем термогравиметрии; анализ дисперсии диэлектрической проницаемости кристаллической РНК и её солей вплоть до сверхвысокочастотного диапазона. Таким образом, для задач создания биоэлектроники/биомолекулярной электроники на основе твердотельной РНК экспериментально доказывается: а) возможность проведения электрофизического сигнала на поверхности гранулятов РНК; б) наличие микро/наноструктуры, способной к проведению электрофизического сигнала РНК; в) зависимость проведения сигнала от ионного состава среды и степени гидратации образца. У твердотельной РНК и её соли зарядка под электронным пучком, подвижность протонов и частотная зависимость (дисперсия) диэлектрической проницаемости в радиочастотном диапазоне (вплоть до СВЧ) существенно различаются.</p> <p style="text-align: justify;">&nbsp;</p> <p style="text-align: justify;"><em>Ключевые слова:</em> РНК-биоэлектроника, органическая электроника, биомолекулярная электроника, супрамолекулярная ионика, сканирующая электронная микроскопия, метод протонной магнитной релаксации, ЯМР, термогравиметрический анализ, импедансная спектроскопия.</p> 2025-05-07T00:00:00+03:00 Copyright (c) 2025 ЭЛЕКТРОННАЯ ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ