Аннотация
УДК 621.755
DOI https://doi.org/10.5281/zenodo.3640580
Рассмотрены основные схемы, на базе которых создаются установки для электроискрового легирования. Представлены схемы генераторов искровых импульсов от первых релакса-ционных RC-генераторов до разобщенных полупроводниковых. Предложены способы совершенствования схем и улучшения характеристик покрытий. Показано, что процесс высокочастотного легирования с применением ручного вибрирующего электрода значительно улучшает качественные характеристики нанесенных слоев.
Ключевые слова: электроискровое легирование, генераторы искровых импульсов, источники питания, синхронизация генераторов, высокочастотное легирование.