Аннотация
УДК 541.138:539.216
Проведена серия экспериментов по осаждению сульфида металла на стеклянных и медных подложках методом последовательного нанесения тонких пленок с помощью ионной адсорбции и реакции (метод SILAR). Этот метод, основанный на процессе адсорбции катионов, предполагает наличие сил Ван-дер-Ваальса и электростатических сил. Согласно теоретическому анализу, рассматриваемому в настоящей работе, равновесное расстояние между катионами и поверхностью подложки ниже в случае медной подложки, чем в случае стеклянной, что подтверждает результаты, полученные в экспериментах по методике SILAR. Поверхностный заряд стеклянной подложки сильно зависит от рН раствора. При отсутствии поверхностного заряда, доминирующие силы между катионами в растворе и стеклянной подложкой являются отталкивающими в отличие от случая с медной подложкой, когда силы притяжения доминируют даже, если поверхность имеет некоторый положительный заряд. Это исследование обогащает знания о параметрах оптимизации при изготовлении тонких пленок из халькогенидов металлов с хорошей адгезией.
Ключевые слова: тонкие пленки, метод последовательного нанесения слоев ионной адсорбцией и реакцией, адсорбция, халькогениды металлов, силы ван-дер-Ваальса, электростатические силы.