ОСОБЕННОСТИ ПРОЦЕССА ОСАЖДЕНИЯ ГАЛЬВАНИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ В СЛУЧАЕ ПРИМЕНЕНИЯ ОДНОФАЗНОГО ИСТОЧНИКА ПИТАНИЯ СО ВСТРОЕННЫМ ИНДУКТИВНО-ЕМКОСТНЫМ УСТРОЙСТВОМ
Том 43 № 2 (2007), Содержание
Том 43 № 2 (2007)

ОСОБЕННОСТИ ПРОЦЕССА ОСАЖДЕНИЯ ГАЛЬВАНИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ В СЛУЧАЕ ПРИМЕНЕНИЯ ОДНОФАЗНОГО ИСТОЧНИКА ПИТАНИЯ СО ВСТРОЕННЫМ ИНДУКТИВНО-ЕМКОСТНЫМ УСТРОЙСТВОМ

В.Ф. Гологан
Институт прикладной физики Академии наук Республики Молдова, ул. Академией 5, г. Кишинев, МD-2028, Молдова
Ж.И. Бобанова
Институт прикладной физики Академии наук Республики Молдова, ул. Академией 5, г. Кишинев, МD-2028, Молдова
С.Х. Ивашку
Институт прикладной физики Академии наук Республики Молдова, ул. Академией 5, г. Кишинев, МD-2028, Молдова
В.А. Попов
Институт прикладной физики Академии наук Республики Молдова, ул. Академией 5, г. Кишинев, МD-2028, Молдова
В.А. Мазур
Центр метрологии и автоматизации научных исследований АНМ, ул. Академией, 3,г. Кишинев, МD-2028, Молдова

Аннотация

ОСОБЕННОСТИ ПРОЦЕССА ОСАЖДЕНИЯ ГАЛЬВАНИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ В СЛУЧАЕ ПРИМЕНЕНИЯ ОДНОФАЗНОГО ИСТОЧНИКА ПИТАНИЯ СО ВСТРОЕННЫМ ИНДУКТИВНО-ЕМКОСТНЫМ УСТРОЙСТВОМ

article_2